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Notice de type Personne

Point d'accès autorisé

Vallée, Christophe (19..-.... ; microélectronicien)

Sur le web

Information

(par souci de protection des données à caractère personnel, le jour et le mois de naissance peuvent ne pas être affichés)
Langue d'expression : français
Pays : France
Date de naissance :    19XX
Genre : Masculin

Notes

Note publique d'information : 
Directeur de thèse à l'Université de Grenoble 1. En poste au LTM (Laboratoire des Technologies de la Microélectronique)-CNRS/Univ. Grenoble (en 2004)

Note publique d'information : 
Auteur(e) d'une thèse de doctorat en physique (Nantes, 1999)

Identifiants externes

Identifiant VIAF : http://viaf.org/viaf/193897735
Identifiant SCOPUS : 35316249700

Source

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Dépôt à basse température de couches minces d'oxyde de silicium élaborées en plasma oxygène / organosilicié dans un réacteur hélicon / Christophe Vallée ; sous la direction de Agnès Granier, 1999. - Thèse de doctorat : Physique : Nantes : 1999

Elaboration par PE-MOCVD à injection de couches minces d'oxyde d'yttrium pour des applications en microélectronique avancée [thèse 2004] / Christophe Durand

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