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URI de l'entité : http://www.idref.fr/256710767/idCopier cet URI
Notice de type Personne

Point d'accès autorisé

Wang, Weixi (1992-....)
Nom à l'état civil

Sur le web

Information

(par souci de protection des données à caractère personnel, le jour et le mois de naissance peuvent ne pas être affichés)
Langue d'expression : anglais
Pays : Chine
Date de naissance :    1992
Genre : Féminin

Notes

Note publique d'information : 
Titulaire d'un doctorat en Physique de la matière condensée à l'Institut polytechnique de Paris en 2021

Identifiants externes

Identifiant VIAF : http://viaf.org/viaf/174162842437873042429
Identifiant ORCID : 0009-0004-9869-0149

Source

Plasma-enhanced CVD growth of cubic and hexagonal diamond silicon nanowires with liquid-solid mixed catalysts for photovoltaic applications / Weixi Wang ; sous la direction de Jean-Luc Maurice et Pere Roca i cabarrocas. Thèse de doctorat : Physique de la matière condensée : Institut polytechnique de Paris : 2021

Information trouvée : née le 08/02/1992 (d'après le formulaire de thèse)

... Références liées : ...