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Notice de type Personne

Point d'accès autorisé

Heiser, Thomas (1960-....)

Sur le web

Information

(par souci de protection des données à caractère personnel, le jour et le mois de naissance peuvent ne pas être affichés)
Langue d'expression : français
Pays : France
Date de naissance :    1960

Notes

Note publique d'information : 
Titulaire d'un doctorat d'université en physique des semiconducteurs (Strasbourg 1, 1988).- Professeur à l'Université Louis Pasteur - Strasbourg 1 (en 2003)

Identifiants externes

Identifiant ORCID : 0000-0003-0969-2034
Identifiant VIAF : http://viaf.org/viaf/225085615
Identifiant SCOPUS : 55886989300
Identifiant ARK BNF : http://catalogue.bnf.fr/ark:/12148/cb12465355p
Identifiant ISNI : 0000000374961149

Source

Contribution à l'étude du cuivre dans le silicium et d'une technique de caractérisation associée / Assia Belayachi-Farid, sous la dir. de Thomas Heiser, 2003 [thèse]
Développemnt d'une technique d'analyse localisée des défauts électriquement actifs dans les semiconducteurs / Thomas Heiser, 1988 [thèse univ.]

... Références liées : ...