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Notice de type Personne

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Bousquet, Angélique (1979-...)

Sur le web

Information

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Langue d'expression : français
Pays : France
Date de naissance :    1979
Genre : Féminin

Notes

Note publique d'information : 
En poste au Laboratoire des Matériaux Inorganiques de l'Université Blaise Pascal (Clermont-Ferrand 2) en 2011

Note publique d'information : 
Titulaire d'un doctorat en Sciences des matériaux, plasma et couches minces (Nantes, 2005)

Identifiants externes

Identifiant VIAF : http://viaf.org/viaf/214259820
Identifiant HAL : angeliquebousquet
Identifiant ORCID : 0000-0001-8493-5468
Identifiant SCOPUS : 18435759300
Identifiant ISNI : 0000000359060799

Source

Dépôt de couches minces par plasma pulsé radiofréquence et basse pression en mélange hexaméthyldisiloxane / oxygène [thèse]

Les oxynitrures de silicium déposés par pulvérisation en gaz réactif pulsé pour des dispositifs antireflets à gradient d'indice de réfraction / Amira Farhaoui ; sous la direction de Angélique Bousquet et Emmanuel Centeno. Thèse de doctorat : Chimie, Sciences des Matériaux : Clermont-Ferrand 2 : 2016

Pulvérisation co-GLAD de films minces métalliques nano-structurés à base tungstène / Houssem Boukhalfa ; sous la direction de Valérie Potin. Thèse de doctorat : Chimie - Physique : Bourgogne Franche-Comté : 2022

Information trouvée : Membre du jury

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